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氯化氫在合成设备中的形成流程要用到石墨降膜吸收器
氯化氫在合成設備中的形成流程.我們知道,在生産過程中的合成並不像在實驗室制取一樣那麽簡單,要考慮到很多方面的因素,一個是使用的反應物的量,另一個是反應條件,還有就是最後生成物的量,以及生成物的提純。
经过计量的氯气和氢气进行流量调节,调节氯气和氢气的比值为1:1.04-1.10(体积比),送入二合一氯化氫石墨合成炉进行反应,反应生成的热量通过合成炉夹套中的循环水带走,反应生成氯化氫气体,通过3.6米长的石墨套管冷却器,氯化氫气体温度降到165℃以下,送入石墨冷却器用循环水冷却,冷却后氯化氫气体温度降至45℃左右,通入机前深冷气经冷冻水进一步冷却到-20℃~-30℃脱水。
冷凍後的氯化氫气体經除霧器脫除氯化氫气体中的雾滴后,经机前加热器加热到15-25℃后,进入氯化氫压缩机使氯化氫气体加压到0.3-0.4Mpa,后经缓冲罐(V-103)缓冲进入氯化氫深冷器,氯化氫气体冷却到-15~25℃,脱除氯化氫气体中的酸水,在进入V-105缓冲脱除氯化氫气体夹带的雾滴,氯化氫气体经加热的(E-106)加热后进入流化床供流化床反应使用。
一般的,这个过程是连续进行的,所以每个过程都是经过严格的计算和设计的,保证合成的顺利进行。
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